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填补世界空白 天图企业荣获“2013华夏气雾剂创新大奖”

2021-5-21 17:13| 发布者: wdb| 查看: 134| 评论: 0|原作者: [db:作者]|来自: [db:来源]

摘要: 填补世界空白 天图企业荣获“2013华夏气雾剂创新大奖”,更多汽车装饰知识看这里。

天图企业的“聚硅氮烷没有机晶膜气雾剂”技艺在2013气雾剂创新颁奖典礼上得到了“2013华夏气雾剂创新大奖”。

聚硅氮烷没有机晶膜气雾剂技艺名目所属技艺范畴是气雾剂产物。本名目以“可湿固化的聚硅氮烷”(专利号:CN1630578 A)作为最重要的原料,经过采用气雾剂包装方式,抽真空并充填氮气作为推行剂,从而隔绝了空气和水分聚合反映介质,让得“可湿固化的聚硅氮烷”在气雾罐内可行长久保留。运用时,将产物喷在各式基板外表,在空气中水分的效用下,聚硅氮烷产生聚合反映,30分钟后便可造成刚性致密的没有机晶膜(没有机SiO/SiN)。从而创新性地研发出一款填补世界空白的气雾剂新品种。